ホーム > 組織から探す > 産業技術センター > 組織概要 > 最近導入した設備機器 > 令和6年度 公設工業試験研究所における機械等設備拡充補助事業

ページID:50491

公開日:2024年10月10日

ここから本文です。

令和6年度 公設工業試験研究所における機械等設備拡充補助事業

補助事業概要の広報資料

  • 補助事業番号 2024M-329
  • 補助事業名 2024年度公設工業試験研究所等における機械設備拡充補助事業
  • 補助事業者名 香川県

1 補助事業の概要

  • (1)事業の目的
     補助事業で導入した機器を技術相談・指導、研究開発等に活用して、機械金属製造業を中心とした地域中小企業者等の新製品開発や新分野進出、製品品質・機能の改善及び向上などを目指す。
  • (2)実施内容
     種々粉末試料の粒子の大きさの分布を精度よく測定する装置「粒度分布測定システム」を導入した。
     これにより、地域中小企業者等の新製品開発や新分野進出、技術力向上による競争力の強化に寄与し、地域中小企業者等の活性化につながるものと期待される。

2 予想される事業実施効果

 産業技術センターの機械設備の充実に伴い、機械金属製造業を中心とした地域中小企業者等の当センターに対する期待が高まり、共同開発や技術指導・機器利用などによる企業支援もさらに増加するものと考えられる。その結果、地域中小企業者等の新製品開発や新分野進出、技術力向上による競争力の強化が図られ、地域中小企業者等の活性化につながるものと期待される。

3 本事業により導入した設備

●粒度分布測定システム

種々粉末試料の粒子の大きさの分布を精度よく測定する装置。
ナノメートルからミリメートルまで広い範囲の粒度分布を測定可能。

【型式】(株)堀場製作所 LA-960S2、SZ-100S2

【主な機能・仕様】
<レーザ回折散乱法>
 ・測定範囲:0.01μm~3000μm(湿式)、0.1μm~5000μm(乾式)
 ・光源:半導体レーザ 650nm、LED 405nm
 ・湿式測定方式:フロー測定、バッチ測定
 ・湿式測定使用可能分散媒:水、エタノール等
<動的光散乱法>
 ・測定範囲:0.3nm~10.0μm
 ・光源:半導体レーザ 532nm
 ・使用可能分散媒:水、エタノール等

【設置場所】香川県産業技術センター

  粒度分布測定システム

このページに関するお問い合わせ